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生产芯片的两个机器,光刻机和蚀刻机有哪些区别呢?

  • 更新日期 - 2019年09月01日 14:46

大家好,我是学姐。大家应该都知道,在生产芯片的时候,有两个大型设备,一个是光刻机,另外一个就是蚀刻机,那么有的朋友就会问,学姐呀,什么是光刻机,什么是蚀刻机,它俩到底有哪些区别呢?今天学姐就跟大家好好说说哈,本期知识点很密集,大家都听好了哈。

生产芯片的两个机器,光刻机和蚀刻机有哪些区别呢?

什么是蚀刻机呢?学姐来告诉你,蚀刻机可以分为化学蚀刻机及电解蚀刻机两种类型哈我把班主任按地上日,32gmgm国产,在化学蚀刻中是使用化学溶液,经由化学反应以达到蚀刻的目的,化学蚀刻机是将材料用化学反应或物理撞击作用而移除的技术。那什么是光刻机呢?光刻机又叫曝光系统,光刻系统,简单的说就是用光来制作一个图形,在硅片表面匀胶,然后将掩模版上的图形转移光刻胶上的过程将器件复制到硅片上的过程。那么它俩有哪些区别呢?

生产芯片的两个机器,光刻机和蚀刻机有哪些区别呢?

首先学姐说一下制造芯片原理用刀的两中物质,金属和光刻胶。首先在金属表面覆盖光刻胶,再用光把光刻胶蚀掉,然后是浸泡,于是没有光刻胶部分会被侵蚀,带光刻胶那部分就不会被侵蚀。其实这两个过程就是光刻和蚀刻,用到的机器就是光刻机和蚀刻机,这回大家都明白了吧。

生产芯片的两个机器,光刻机和蚀刻机有哪些区别呢?

那么有人问,那我们国家有这两个设备吗?首先学姐说一下,目前全世界最有影响力的芯片加工厂,有英特尔,三星,还有台积电等。这三家芯片加工,都和一家公司有密切的关系,那就是荷兰公司ASML。有的朋友对这个公司并不陌生,这公司专门生产刻光机,生产技术绝对是世界顶级的!就连发达的美国也无法生产刻光机,只能跟ASML合作。而日本的佳能和尼康的刻光机,也竞争不过ASML。目前ASML可以实现6、5、4、3等纳米的芯片生产,据说现在已经突破到1.2nm了!

生产芯片的两个机器,光刻机和蚀刻机有哪些区别呢?

这时候咱们说一下国内的光刻机技术。虽然外面一直对咱们市场垄断,但是咱们国内科学家一直在努力研发,终于有了好消息。那就是经过7年的艰苦努力公关,中国科学院光电技术研究所,成功研发出世界首台分辨力最高的紫外超分辨光刻机,这个消息让学姐很激动,咱们使用365纳米波长的光即可生产22纳米的工艺芯片,然后通过各种工艺技术甚至可以实现10nm以下的芯片生产啦,这个绝对是个好消息。ASML公司虽然垄断,但是咱们依然可以通过自己的努力,慢慢缩小与世界顶级光刻机生产公司的差距。其实这是咱们芯片行业取得的最大突破,学姐感觉慢慢地中国芯片就会挑战英特尔,台积电和三星了,然后能更好的为咱们的华为手机和小米等国产手机服务,咱们的科技也会越来越强大!

生产芯片的两个机器,光刻机和蚀刻机有哪些区别呢?

好啦,本期光刻机和蚀刻机学姐就唠到这里,大家有哪些地方没明白,随时留言跟学姐说哈,咱们一起讨论!下期见!

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